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《文章投稿》夹层纳米结构ZnInS催化剂的设计构建

更新时间:2025-07-02      点击次数:545


1. 文章信息

标题:

Ultrathin nanosheet ZnIn2S4-Encapsulated Rich-Mo Edge Active Site Mo2C-N Schottky Junction

中文标题:夹层纳米结构ZnInS催化剂的设计构建

页码:Volume 357, 15 November 2024,124266

DOI:org/10.1016/j.apcatb.2024.124266  

2. 文章链接:

https://doi.org/10.1016/j.apcatb.2024.124266      

3. 期刊信息:

期刊名:Applied Catalysis B-Environment and Energy      

4. 作者信息:

第一作者:于濂清;  通讯作者:于濂清 ; 通讯单位:中国石油大学(华东)

5. 文章所用产品;

北京中教金源300W氙灯光源(CEL-HXF300)

6. 文章简介

开发高效的多功能催化剂仍然是一个巨大的挑战,由于催化剂对氧/氢中间物质的吸附不理想、动力学速率不高、缺乏活性反应位点。本工作通过氮掺杂碳化钼(Mo2C)中形成了丰富的Mo边缘活性位点,利用Mo2C-N作为助催化剂增强了ZnIn2S4 (ZIS)的析氢反应(HER)、析氧反应(OER)和光催化析氢反应(PHE)。Mo2C-N/ZIS具有显著的HER和OER活性,在电流密度为10 mA·cm-2下,过电位分别低至74 mV (HER) 和 250 mV (OER)。Mo2C-N/ZIS之间形成的肖特基结具有双重电荷转移途径,有利于增强光生载流子的分离,减少ZIS的体面复合,因而增强了PHE/HER/OER活性。密度泛函理论(DFT)计算表明,Mo2C-N/ZIS的肖特基结对氢和氧中间体具有最佳的吸收能。


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本文先通过热处理得到Mo2C-N, 并结合油浴法将超薄ZIS纳米片封装在二维的Mo2C-N表面。考虑到碳源和非均相的影响,采用锌基沸石型金属有机骨架(ZIF-8)或三聚氰胺包覆的MoO3在氩(Ar)气氛下高温碳化以控制相转化过程(图1(a-c))。如图1(d-e)所示,XRD结果表明MoO3-ZIF-8和MoO3-C3H6N6最终分别转化为Mo2C-N和碳包覆二氧化钼(MoO2@C)。图1(f)解释了在不同气氛和条件下,MoO3在高温相转换过程形成的晶体结构。


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图1(a-c)合成示意图和(d-f)XRD和结构分析


如图2-5所示,通过SEM表征发现,在不加任何碳源下,MoO3在高温下相转换得到的a-MoO3@Mo9O26呈现表面光滑的二维纳米片层。而Mo2C-N在高温和Ar气氛下煅烧时,构建了丰富的微观孔隙结构,表明微观形貌和活性位点可以通过相变过程和碳源进行调节。Mo2C-N/ZIS呈现出具有周期性蜂窝孔结构的夹层纳米结构,形成了良好的异质界面,充分利用了Mo2C-N/ZIS夹层纳米结构的优势,促进了载流子在催化剂中的快速传递(图2(e-f))。此外,在10-a-MoO3@Mo9O26/ZIS和10-MoO2@C/ZIS中出现了较大的孔隙结构和界面网络结构的缺失,导致电子传递的能量垒增强(图S4(a-c))。


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图2 Mo2C-N, ZIS和Mo2C-N/ZIS结构形貌表征



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图3 a-MoO3@Mo9O26和MoO2@C的SEM和元素组成分析


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图4 10-a-MoO3@Mo9O26/ZIS, (b) 10-MoO2@C/ZIS, (c) 20-Mo2C-N/ZIS的SEM和元素组成分析


此外,通过透射电镜(TEM)进一步分析证明了超薄2D纳米片自组装成多孔花状的ZIS,并均匀地封装在2D Mo2C-N表面。高分辨率透射电镜(HRTEM)显示,Mo2C-N/ZIS的晶格条纹分别对应为ZIS (108)晶面和Mo2C-N 的(002)晶面。此外,我们进一步利用扫描透射电子显微镜(QSTEM)模拟软件对ZIS、Mo2C-N和Mo2C-N/ZIS的STEM图像进行模拟,以深入了解界面结构关系。在ZIS, Mo2C-N的STEM图像中可以清楚地观察到原子的排列。对于Mo2C-N/ZIS,表面ZIS的原子排列位点受到明显影响,这表明Mo2C-N助催化剂的诱导不仅可以改变微观形貌,还可以影响反应活性位点。

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图5 Mo2C-N, ZIS和Mo2C-N/ZIS结构形貌表征


图6所示,通过拉曼分析了Mo2C-N, ZIS和Mo2C-N/ZIS的组成及官能的成键情况。另外,Mo 3d射线光电子能谱 (XPS)分析显示,Mo2C-N中Mo存在多种价态。在Mo2C-N上生长ZIS后,Mo 3d的结合能比纯Mo2C-N向更高的结合能方向移动。在Mo2C-N/ZIS复合材料中出现了两个明显的新峰,它们分别属于S 2s (226.2 eV)和Mo2+ (227.5 eV),表明ZIS和Mo2C-N之间存在很强的界面相互作用。Mo-N、吡啶N、吡咯N和石墨N的衍射峰分别在396.0、397.7、399.0和401.1 eV,表明氮被成功地掺杂到碳的位置上。此外,对于C 1s的XPS光电子能谱,在283.5、284.7、285.8、289.5和291.1 eV的峰分别归因于C- Mo、C-C、C- N、C-O和O-C=O的结合能,C 1s的强度显著降低。N元素的诱导打破了Mo-C键的平衡,导致电子在Mo位中心重新分布。值得注意的是,与纯ZIS相比,S 2p、In 3d和Zn 2p的结合能都向较低的结合能方向移动,进一步验证了Mo2C-N的协助有助于空穴向Mo2C-N的转移,Mo2C-N/ZIS的肖特基结势垒可以限制电子的转移,导致ZIS的电子云分布较高。


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图6 Mo2C-N, ZIS和Mo2C-N/ZIS的组成表征

图7所示,通过结合紫外-可见漫反射光谱(DRS)和曲线分析了Mo2C-N, ZIS和Mo2C-N/ZIS的光学性能及能带。Mo2C-N/ZIS肖特基结夹层纳米结构的可见光吸收比ZIS增强,而a-MoO3@Mo9O26和MoO2@C与ZIS结合后在可见光区仍表现出较弱的光吸收,说明Mo2C-N更适合作为助催化剂调节ZIS的带隙结构。根据异构结构的类别,Mo2C-N/ZIS、MoO2@C/ZIS和a-MoO3@Mo9O26的能带结构分别属于典型的肖特基结和跨界隙(Type-I)。与Type-I型异质结构催化剂相比,肖特基结催化剂具有较强氧化还原能力的优点,并且具有更好的光生载流子分离能力。此外,已有研究证实,肖特基结中的光生载流子由于具有“双转移路径",可以有效地减少光生电子-空穴对的复合,有利于形成空间电荷分离区。因此,Mo2C-N作为一种很有前途的助催化剂,在调节带隙和光生载流子的分离,减少ZIS的体积和表面复合方面起着至关重要的作用。

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图7 Mo2C-N, ZIS和Mo2C-N/ZIS的光学性能及能带分析

如图8所示,电化学测试中,10-Mo2C-N/ZIS 表现出了令人印象深刻的性能,其电流密度远高于纯的ZIS和Mo2C-N,且其EIS的半圆半径最小,表明Mo2C-N/ZIS肖特基结实现了有效地界面电荷转移和传输。另一方面,Mo2C-N/ZIS肖特基结夹层纳米结构的稳态光致发光(PL)猝灭,进一步证明其有效地建立了ZIS与Mo2C-N界面的电子传递渠道。

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图8 电化学性能和PL光谱表征


如图9所示,Mo2C-N/ZIS光催化剂的光催化产氢可高达6.71 mmol g-1·h-1, 分别是纯ZIS的16.4倍和Mo2C-N的6.0倍,并且高于目前文献报道的同类反应催化活性。Mo2C-N/ZIS催化剂的太阳能氢转换(STH)效率高达1.11%,表观量子产率实现了25.06%在入射光波长为400 nm. 这一明显地提升的催化性能和稳定性的实现,得益于Mo2C-N/ZIS的合适能带结构,更宽的光谱响应范围和更高的光生电子分离效率。根据密度泛函理论(DFT)结果,ZIS的功函数(6.5?eV)大于半导体Mo2C-N的功函数(4.1?eV), Mo2C-N和ZIS耦合后,由于界面肖特基势垒的作用,ZIS导带附近的光生电子很难沿肖特基结迁移到Mo2C-N表面,而ZIS价带的光生空穴可以转移到Mo2C-N表面,形成空间电荷分离区域。此外,表面或体电荷在肖特基结下有效地抑制了重组,这为H2O的分解和表面氧化还原反应提供了更多的活化位点。更重要的是,引入的N原子修饰和调节了Mo2C的电子结构,激活了边缘Mo,为捕获高活性的富Mo边缘原子作为高效PHE提供了潜在的支撑。


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图9 Mo2C-N, ZIS和Mo2C-N/ZIS的光催化性能分析及机理解释



另外,HER和OER测试结果表明10-Mo2C-N/ZIS具有电催化活性,在电流密度为10 mA·cm-2, 过电位低至74 mV (HER) 和 250 mV (OER),减小的Tafel斜率值和增加的Cdl 表明Mo2C-N结合ZIS有效调节了HER/OER反应的限速步骤,并提高了反应的活性位点,Mo2C-N/ZIS显示出了稳定性,在实际应用中具有潜力。


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图10 Mo2C-N, ZIS和Mo2C-N/ZIS的HER性能分析


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图11 Mo2C-N, ZIS和Mo2C-N/ZIS的OER性能分析


DFT计算表明,Mo2C-N/ZIS 具有合适的氢质子和氢氧中间产物的吸附能,加速OER, HER反应速率,Mo2C-N/ZIS的肖特基结具有双重有利的转移路线,增强了光生载流子迁移,减少了ZIS的本体和表面复合。此外,原子的重分布电子构型和局部电荷分布状态不仅可以提高本征活性,还可以调节氢和氧中间体的吸附和解吸行为。因此,Mo2C-N/ZIS催化剂具有良好的PHE/HER/OER性能,是光/电化学应用的理想催化剂。

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图12 DFT计算及HER/OER机理分析




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